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研究半导体缺陷的新实验方法

发布日期:2024-12-25 09:47:48 阅读:2

像所有所谓的“晶体”材料一样,半导体由在空间中完全规则排列的原子组成。但实际上,材料从来都不是完美的。即使在工业规模上使用润滑良好的工艺生产,半导体也存在缺陷。这些改变了材料的局部电子结构,这可能导致负面后果,但有时对应用有益,因此理解其背后的基本物理非常重要。由于阿加莎·乌利巴里(Agatha Ulibarri)在论文期间所做的工作,PMC的一个团队刚刚做到了这一点,并发表在《物理评论快报》(Physical Review Letters)杂志上。

这里讨论的半导体是镓、砷和氮(GaAsN)的合金。有时,镓原子不符合通常的规则排列,而是位于间隙中。这种“间隙”缺陷改变了材料中电子可以占据的能级。在半导体中,电子可以在能带中循环:价带,在较高能量下,导带。例如,获得足够能量的电子可以从价带移动到导带,然后可以“回落”到价带,以光的形式失去能量。在这两个带之间有一个被称为“间隙”的禁带,理论上,电子没有可用的能级。缺陷的存在导致间隙中出现电子水平。因此,导带中的电子也有可能通过这些能级在两个步骤中重新组合,而不是直接落入价带。这个两步过程不发光

“确定这些能级的能量至关重要,”PMC的物理学家Alistair Rowe说。例如,如果这些水平在禁带内“很深”,这通常会对使用这些半导体设计的器件有害。”在他们的科学出版物中,PMC的研究人员与澳大利亚墨尔本大学的同事合作,首次描述了由于GaAsN合金中存在这种间隙缺陷而产生的这些状态的能量。最重要的是,通过一种原始的实验方法,他们成功地证明了这种电子结构是如何依赖自旋的。与电荷一样,自旋是电子的固有特性,只能取两个值。通过使用圆偏振光的POL-PICTS方法,从价带到导带的电子大多具有给定的自旋,这使得通过间隙态的复合如何对自旋敏感成为可能。结果表明,GaAsN中存在间隙镓缺陷不仅导致一种状态,而且导致三种状态。此外,他们的能量与理论预测不一致。Alistair Rowe解释说:“这些值取决于缺陷周围化学环境的确切性质,目前尚不清楚。”。我们的能量数据可以为理论家提供一个参考点,通过将他们的计算结果与我们的实验进行比较来揭示这种环境。“

研究半导体缺陷的新实验方法

这项工作基于PMC在半导体物理方面的广泛专业知识,使我们能够更好地理解由于这种间隙缺陷引起的物理,这可以用于应用,就像今天钻石中称为“NV中心”的其他缺陷一样。最后,POL-PICTS方法对于探测其他材料非常有用.

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